Simple view
Full metadata view
Authors
Statistics
Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment
Journal
Measurement
200
Author
Volume
179
Article ID
109487
ISSN
0263-2241
eISSN
1873-412X
Keywords in English
secondary ion mass spectrometry
molecular dynamics
sputtering
boron nitride
2D materials
Language
English
Journal language
English
Affiliation
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego
Scopus© citations
5
cris.lastimport.wos | 2024-04-09T21:47:24Z | |
dc.affiliation | Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego | pl |
dc.contributor.author | Michałowski, Paweł Piotr | pl |
dc.contributor.author | Maciążek, Dawid - 188018 | pl |
dc.contributor.author | Postawa, Zbigniew - 100132 | pl |
dc.contributor.author | Caban, Piotr A. | pl |
dc.contributor.author | Kozdra, Sylwia | pl |
dc.contributor.author | Wójcik, Adrianna | pl |
dc.contributor.author | Baranowski, Jacek M. | pl |
dc.date.accessioned | 2021-06-15T11:06:11Z | |
dc.date.available | 2021-06-15T11:06:11Z | |
dc.date.issued | 2021 | pl |
dc.description.volume | 179 | pl |
dc.identifier.articleid | 109487 | pl |
dc.identifier.doi | 10.1016/j.measurement.2021.109487 | pl |
dc.identifier.eissn | 1873-412X | pl |
dc.identifier.issn | 0263-2241 | pl |
dc.identifier.project | ROD UJ / O | pl |
dc.identifier.uri | https://ruj.uj.edu.pl/xmlui/handle/item/274275 | |
dc.language | eng | pl |
dc.language.container | eng | pl |
dc.rights | Dodaję tylko opis bibliograficzny | * |
dc.rights.licence | Bez licencji otwartego dostępu | |
dc.rights.uri | * | |
dc.subject.en | secondary ion mass spectrometry | pl |
dc.subject.en | molecular dynamics | pl |
dc.subject.en | sputtering | pl |
dc.subject.en | boron nitride | pl |
dc.subject.en | 2D materials | pl |
dc.subtype | Article | pl |
dc.title | Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment | pl |
dc.title.journal | Measurement | pl |
dc.type | JournalArticle | pl |
dspace.entity.type | Publication |
cris.lastimport.wos
2024-04-09T21:47:24Z dc.affiliationpl
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego dc.contributor.authorpl
Michałowski, Paweł Piotr dc.contributor.authorpl
Maciążek, Dawid - 188018 dc.contributor.authorpl
Postawa, Zbigniew - 100132 dc.contributor.authorpl
Caban, Piotr A. dc.contributor.authorpl
Kozdra, Sylwia dc.contributor.authorpl
Wójcik, Adrianna dc.contributor.authorpl
Baranowski, Jacek M. dc.date.accessioned
2021-06-15T11:06:11Z dc.date.available
2021-06-15T11:06:11Z dc.date.issuedpl
2021 dc.description.volumepl
179 dc.identifier.articleidpl
109487 dc.identifier.doipl
10.1016/j.measurement.2021.109487 dc.identifier.eissnpl
1873-412X dc.identifier.issnpl
0263-2241 dc.identifier.projectpl
ROD UJ / O dc.identifier.uri
https://ruj.uj.edu.pl/xmlui/handle/item/274275 dc.languagepl
eng dc.language.containerpl
eng dc.rights*
Dodaję tylko opis bibliograficzny dc.rights.licence
Bez licencji otwartego dostępu dc.rights.uri*
dc.subject.enpl
secondary ion mass spectrometry dc.subject.enpl
molecular dynamics dc.subject.enpl
sputtering dc.subject.enpl
boron nitride dc.subject.enpl
2D materials dc.subtypepl
Article dc.titlepl
Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment dc.title.journalpl
Measurement dc.typepl
JournalArticle dspace.entity.type
Publication Affiliations
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej
Maciążek, Dawid
Postawa, Zbigniew
No affiliation
Michałowski, Paweł Piotr
Caban, Piotr A.
Kozdra, Sylwia
Wójcik, Adrianna
Baranowski, Jacek M.
* The migration of download and view statistics prior to the date of April 8, 2024 is in progress.
Views
22
Views per month
Views per city
Krakow
10
Barcelona
3
Ashburn
2
Wroclaw
2
Dublin
1
Radomyśl
1