Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment

2021
journal article
article
8
cris.lastimport.wos2024-04-09T21:47:24Z
dc.affiliationWydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiegopl
dc.contributor.authorMichałowski, Paweł Piotrpl
dc.contributor.authorMaciążek, Dawid - 188018 pl
dc.contributor.authorPostawa, Zbigniew - 100132 pl
dc.contributor.authorCaban, Piotr A.pl
dc.contributor.authorKozdra, Sylwiapl
dc.contributor.authorWójcik, Adriannapl
dc.contributor.authorBaranowski, Jacek M.pl
dc.date.accessioned2021-06-15T11:06:11Z
dc.date.available2021-06-15T11:06:11Z
dc.date.issued2021pl
dc.description.volume179pl
dc.identifier.articleid109487pl
dc.identifier.doi10.1016/j.measurement.2021.109487pl
dc.identifier.eissn1873-412Xpl
dc.identifier.issn0263-2241pl
dc.identifier.projectROD UJ / Opl
dc.identifier.urihttps://ruj.uj.edu.pl/xmlui/handle/item/274275
dc.languageengpl
dc.language.containerengpl
dc.rightsDodaję tylko opis bibliograficzny*
dc.rights.licenceBez licencji otwartego dostępu
dc.source.integratorfalse
dc.subject.ensecondary ion mass spectrometrypl
dc.subject.enmolecular dynamicspl
dc.subject.ensputteringpl
dc.subject.enboron nitridepl
dc.subject.en2D materialspl
dc.subtypeArticlepl
dc.titleDefect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardmentpl
dc.title.journalMeasurementpl
dc.typeJournalArticlepl
dspace.entity.typePublication
cris.lastimport.wos
2024-04-09T21:47:24Z
dc.affiliationpl
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego
dc.contributor.authorpl
Michałowski, Paweł Piotr
dc.contributor.authorpl
Maciążek, Dawid - 188018
dc.contributor.authorpl
Postawa, Zbigniew - 100132
dc.contributor.authorpl
Caban, Piotr A.
dc.contributor.authorpl
Kozdra, Sylwia
dc.contributor.authorpl
Wójcik, Adrianna
dc.contributor.authorpl
Baranowski, Jacek M.
dc.date.accessioned
2021-06-15T11:06:11Z
dc.date.available
2021-06-15T11:06:11Z
dc.date.issuedpl
2021
dc.description.volumepl
179
dc.identifier.articleidpl
109487
dc.identifier.doipl
10.1016/j.measurement.2021.109487
dc.identifier.eissnpl
1873-412X
dc.identifier.issnpl
0263-2241
dc.identifier.projectpl
ROD UJ / O
dc.identifier.uri
https://ruj.uj.edu.pl/xmlui/handle/item/274275
dc.languagepl
eng
dc.language.containerpl
eng
dc.rights*
Dodaję tylko opis bibliograficzny
dc.rights.licence
Bez licencji otwartego dostępu
dc.source.integrator
false
dc.subject.enpl
secondary ion mass spectrometry
dc.subject.enpl
molecular dynamics
dc.subject.enpl
sputtering
dc.subject.enpl
boron nitride
dc.subject.enpl
2D materials
dc.subtypepl
Article
dc.titlepl
Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment
dc.title.journalpl
Measurement
dc.typepl
JournalArticle
dspace.entity.type
Publication
Affiliations

* The migration of download and view statistics prior to the date of April 8, 2024 is in progress.

Views
25
Views per month
Views per city
Krakow
12
Barcelona
3
Ashburn
2
Wroclaw
2
Dublin
1
Radomyśl
1

No access

No Thumbnail Available