Simple view
Full metadata view
Authors
Statistics
Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment
Journal
Measurement
200
Author
Volume
179
Article ID
109487
ISSN
0263-2241
eISSN
1873-412X
Keywords in English
secondary ion mass spectrometry
molecular dynamics
sputtering
boron nitride
2D materials
Language
English
Journal language
English
Affiliation
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego
Scopus© citations
8
| cris.lastimport.wos | 2024-04-09T21:47:24Z | |
| dc.affiliation | Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego | pl |
| dc.contributor.author | Michałowski, Paweł Piotr | pl |
| dc.contributor.author | Maciążek, Dawid - 188018 | pl |
| dc.contributor.author | Postawa, Zbigniew - 100132 | pl |
| dc.contributor.author | Caban, Piotr A. | pl |
| dc.contributor.author | Kozdra, Sylwia | pl |
| dc.contributor.author | Wójcik, Adrianna | pl |
| dc.contributor.author | Baranowski, Jacek M. | pl |
| dc.date.accessioned | 2021-06-15T11:06:11Z | |
| dc.date.available | 2021-06-15T11:06:11Z | |
| dc.date.issued | 2021 | pl |
| dc.description.volume | 179 | pl |
| dc.identifier.articleid | 109487 | pl |
| dc.identifier.doi | 10.1016/j.measurement.2021.109487 | pl |
| dc.identifier.eissn | 1873-412X | pl |
| dc.identifier.issn | 0263-2241 | pl |
| dc.identifier.project | ROD UJ / O | pl |
| dc.identifier.uri | https://ruj.uj.edu.pl/xmlui/handle/item/274275 | |
| dc.language | eng | pl |
| dc.language.container | eng | pl |
| dc.rights | Dodaję tylko opis bibliograficzny | * |
| dc.rights.licence | Bez licencji otwartego dostępu | |
| dc.source.integrator | false | |
| dc.subject.en | secondary ion mass spectrometry | pl |
| dc.subject.en | molecular dynamics | pl |
| dc.subject.en | sputtering | pl |
| dc.subject.en | boron nitride | pl |
| dc.subject.en | 2D materials | pl |
| dc.subtype | Article | pl |
| dc.title | Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment | pl |
| dc.title.journal | Measurement | pl |
| dc.type | JournalArticle | pl |
| dspace.entity.type | Publication |
cris.lastimport.wos
2024-04-09T21:47:24Z dc.affiliationpl
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego dc.contributor.authorpl
Michałowski, Paweł Piotr dc.contributor.authorpl
Maciążek, Dawid - 188018 dc.contributor.authorpl
Postawa, Zbigniew - 100132 dc.contributor.authorpl
Caban, Piotr A. dc.contributor.authorpl
Kozdra, Sylwia dc.contributor.authorpl
Wójcik, Adrianna dc.contributor.authorpl
Baranowski, Jacek M. dc.date.accessioned
2021-06-15T11:06:11Z dc.date.available
2021-06-15T11:06:11Z dc.date.issuedpl
2021 dc.description.volumepl
179 dc.identifier.articleidpl
109487 dc.identifier.doipl
10.1016/j.measurement.2021.109487 dc.identifier.eissnpl
1873-412X dc.identifier.issnpl
0263-2241 dc.identifier.projectpl
ROD UJ / O dc.identifier.uri
https://ruj.uj.edu.pl/xmlui/handle/item/274275 dc.languagepl
eng dc.language.containerpl
eng dc.rights*
Dodaję tylko opis bibliograficzny dc.rights.licence
Bez licencji otwartego dostępu dc.source.integrator
false dc.subject.enpl
secondary ion mass spectrometry dc.subject.enpl
molecular dynamics dc.subject.enpl
sputtering dc.subject.enpl
boron nitride dc.subject.enpl
2D materials dc.subtypepl
Article dc.titlepl
Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment dc.title.journalpl
Measurement dc.typepl
JournalArticle dspace.entity.type
Publication Affiliations
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej
Maciążek, Dawid
Postawa, Zbigniew
No affiliation
Michałowski, Paweł Piotr
Caban, Piotr A.
Kozdra, Sylwia
Wójcik, Adrianna
Baranowski, Jacek M.
* The migration of download and view statistics prior to the date of April 8, 2024 is in progress.
Views
25
Views per month
Views per city
Krakow
12
Barcelona
3
Ashburn
2
Wroclaw
2
Dublin
1
Radomyśl
1