Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment

2021
journal article
article
5
cris.lastimport.wos2024-04-09T21:47:24Z
dc.affiliationWydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiegopl
dc.contributor.authorMichałowski, Paweł Piotrpl
dc.contributor.authorMaciążek, Dawid - 188018 pl
dc.contributor.authorPostawa, Zbigniew - 100132 pl
dc.contributor.authorCaban, Piotr A.pl
dc.contributor.authorKozdra, Sylwiapl
dc.contributor.authorWójcik, Adriannapl
dc.contributor.authorBaranowski, Jacek M.pl
dc.date.accessioned2021-06-15T11:06:11Z
dc.date.available2021-06-15T11:06:11Z
dc.date.issued2021pl
dc.description.volume179pl
dc.identifier.articleid109487pl
dc.identifier.doi10.1016/j.measurement.2021.109487pl
dc.identifier.eissn1873-412Xpl
dc.identifier.issn0263-2241pl
dc.identifier.projectROD UJ / Opl
dc.identifier.urihttps://ruj.uj.edu.pl/xmlui/handle/item/274275
dc.languageengpl
dc.language.containerengpl
dc.rightsDodaję tylko opis bibliograficzny*
dc.rights.licenceBez licencji otwartego dostępu
dc.rights.uri*
dc.subject.ensecondary ion mass spectrometrypl
dc.subject.enmolecular dynamicspl
dc.subject.ensputteringpl
dc.subject.enboron nitridepl
dc.subject.en2D materialspl
dc.subtypeArticlepl
dc.titleDefect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardmentpl
dc.title.journalMeasurementpl
dc.typeJournalArticlepl
dspace.entity.typePublication
cris.lastimport.wos
2024-04-09T21:47:24Z
dc.affiliationpl
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego
dc.contributor.authorpl
Michałowski, Paweł Piotr
dc.contributor.authorpl
Maciążek, Dawid - 188018
dc.contributor.authorpl
Postawa, Zbigniew - 100132
dc.contributor.authorpl
Caban, Piotr A.
dc.contributor.authorpl
Kozdra, Sylwia
dc.contributor.authorpl
Wójcik, Adrianna
dc.contributor.authorpl
Baranowski, Jacek M.
dc.date.accessioned
2021-06-15T11:06:11Z
dc.date.available
2021-06-15T11:06:11Z
dc.date.issuedpl
2021
dc.description.volumepl
179
dc.identifier.articleidpl
109487
dc.identifier.doipl
10.1016/j.measurement.2021.109487
dc.identifier.eissnpl
1873-412X
dc.identifier.issnpl
0263-2241
dc.identifier.projectpl
ROD UJ / O
dc.identifier.uri
https://ruj.uj.edu.pl/xmlui/handle/item/274275
dc.languagepl
eng
dc.language.containerpl
eng
dc.rights*
Dodaję tylko opis bibliograficzny
dc.rights.licence
Bez licencji otwartego dostępu
dc.rights.uri*
dc.subject.enpl
secondary ion mass spectrometry
dc.subject.enpl
molecular dynamics
dc.subject.enpl
sputtering
dc.subject.enpl
boron nitride
dc.subject.enpl
2D materials
dc.subtypepl
Article
dc.titlepl
Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment
dc.title.journalpl
Measurement
dc.typepl
JournalArticle
dspace.entity.type
Publication
Affiliations

* The migration of download and view statistics prior to the date of April 8, 2024 is in progress.

Views
22
Views per month
Views per city
Krakow
10
Barcelona
3
Ashburn
2
Wroclaw
2
Dublin
1
Radomyśl
1

No access

No Thumbnail Available