Celem pracy było wytworzenie nanościeżek platynowych na podłożu krzemowym SiO2/Si oraz zbadanie ich właściwości strukturalnych w celu ustalenia wpływu poszczególnych parametrów procesu wytwarzania ścieżek i jego optymalizacji. Ścieżki nanoszono metodą indukowanej depozycji z gazu prekursora metaloorganicznego (C9H16Pt) przy pomocy wiązki jonowej i elektronowej, wykorzystując układ skaningowego mikroskopu elektronowego wyposażonego w kolumnę FIB (Focused Ion Beam) oraz system GIS (Gas System Injection). Właściwości strukturalne, czyli kształt i wymiary wykonanych ścieżek, były badane przy pomocy mikroskopu sił atomowych działającego w modzie przerywanego kontaktu. Postawioną tezą pracy było natomiast to, że w oparciu o metody FIBID i FEBID (Focused Ion/Electron Beam Induced Deposition) można nanosić przewodzące ścieżki, które dzięki swoim wymiarom mogłyby pełnić rolę elektrod dla różnych układów elektronicznych w skali nanometrycznej.

The aim of the work was a fabrication of platinum nano-scale electrodes on silicon substrate (SiO2/Si) and study of their structural properties in order to determine an influence of particular experimental parameters of the manufacturing process and its optimalization. The electrodes were deposited in process of decomposition of metalorganic precursor gas (C9H16Pt) induced by ion and electron beam, by means of a scanning electron microscope equipped with ion column (Ga liquid-metal ion source) and gas injection system. The structural properties (e.g. shape and dimensions) were studied by atomic force microscope in tapping-mode. It is shown that based on FEBID and FEBID (Focused Ion/Electron Beam Induced Deposition) methods it is possible to deposit a conductive structures of the appropriate size which could be an electrodes for various electronic systems in nanometric scale.