W dniach od 2 kwietnia do 5 kwietnia 2024 r. prowadzone będą prace związane z wdrożeniem nowej wersji systemu Repozytorium UJ. Nie będzie możliwe wprowadzanie nowych informacji do repozytorium. Za utrudnienia przepraszamy.
In this work, the authors examine chemical stability of polymers under x-ray photoemission spectroscopy(XPS)depth profiling coupled with argon gas cluster ion sputtering. The depth profiles measured for polystyrene, poly(3-dodecylthiophene), and poly(methyl methacrylate) thin films do not reveal changes in the XPSspectra due to cluster bombardment. Nevertheless, x-ray irradiation influences the shape of the sputter craters. The observed features are attributed to cross-linking or chain scission occurring in the polymers.
liczba arkuszy wydawniczych:
0,5
wydział: instytut / zakład / katedra:
Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej : Instytut Fizyki im. Mariana Smoluchowskiego
typ:
artykuł w czasopiśmie
podtyp:
artykuł
Pliki tej pozycji
Plik
Rozmiar
Format
Przeglądanie
Nie ma plików powiązanych z tą pozycją.
Pozycja umieszczona jest w następujących kolekcjach